URSS.ru Магазин научной книги
Обложка Берлин Е.В., Сейдман Л.А. Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
Id: 300119

Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии Изд. 2

URSS. 2022. ISBN 978-5-396-01115-1.

Аннотация

Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии — реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов.

Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические... (Подробнее)


Об авторах
top
photoБерлин Евгений Владимирович
В 1979 г. окончил Воронежский государственный университет по специальности «физика». До 1985 г. работал в Научно-производственном объединении «Электроника». В 1989 г. окончил аспирантуру Научно-исследовательского института вакуумной техники (НИИВТ) им. С. А. Векшинского.

По настоящее время основатель и руководитель нескольких фирм в области вакуумного машиностроения и технологий. Автор шести книг и множества статей и патентов по указанной тематике.

photoСейдман Лев Александрович
В 1968 г. окончил Московский институт электронного машиностроения. После окончания института работал в НИИ «Пульсар» до 1995 г. В настоящее время работает там же в должности ведущего научного сотрудника. Диссертацию на соискание степени кандидата технических наук защитил в Ленинградском электротехническом институте (ЛЭТИ) в 1973 г.

Главная область исследований — вакуумные методы получения тонких пленок. Автор и соавтор более 200 печатных работ, шести книг и пятнадцати изобретений.