URSS.ru - Издательская группа URSS. Научная и учебная литература
Об издательстве Интернет-магазин Контакты Оптовикам и библиотекам Вакансии Пишите нам
КНИГИ НА РУССКОМ ЯЗЫКЕ


 
Вернуться в: Каталог  
Обложка Арифов У.А. Взаимодействие атомных частиц с поверхностью твердого тела
Id: 70596
 
999 руб.

Взаимодействие атомных частиц с поверхностью твердого тела

1968. 372 с. Твердый переплет. Букинист. Состояние: 4+. Увеличенный формат (175мм x 265мм). Есть погашенная библиотечная печать.

 Аннотация

В монографии обобщаются результаты исследований в области физической электроники, проводившихся под руководством автора в течение 20 лет в Академии наук Узбекской ССР. Излагаются новейшие данные, касающиеся процессов, происходящих при взаимодействии атомов, ионов и электронов с поверхностью твердого тела. Описаны оригинальные осциллографические методы исследования и теория указанных явлений.

Книга написана на основе монографии автора «Взаимодействие атомных частиц с поверхностью металла», вышедшей в Издательстве АН УзССР в 1961 г. Автор --- специалист в области электроники, доктор физико-математических наук, академик АН УзССР.

В новом издании материал существенно переработан и дополнен многочисленными данными, полученными за последние 6 лет.

Книга рассчитана на специалистов в области физики и физической электроники, преподавателей, инженеров, аспирантов и студентов старших курсов высших учебных заведений.


 Оглавление

Предисловие

Предисловие к изданию 1961г.

Список основных обозначений

Введение

Глава первая. Статический [гальванометрический] метод исследования процессов, происходящих при бомбардировке твердого тела атомными частицами

§ 1. Краткий обзор исследований вторичной эмиссии под действием положительных ионов щелочных элементов

§ 2. Применение гальванометрической методики для исследования вторичных процессов в относительно чистых поверхностных условиях

§ 3. Влияние адсорбированных пленок на вторичные процессы

§ 4. Миграция адсорбированных частиц на поверхности металла

§ 5. Распределение по энергиям вторичных электронов и ионов и предельные энергии вторичных ионов

§ 6. О составе вторичной ионной эмиссии

Глава вторая. Динамический [осциллографический] метод исследования

§ 1. Основные принципы безынерционного метода исследования вторичных ионных и электронных процессов

§ 2. Осциллографический метод исследования явлений адсорбции на поверхности металла

§ 3. Осциллографический метод определения теплоты испарения атомов и ионов

§ 4. Осциллографический метод определения коэффициента ионизации на поверхности раскаленного металла

§ 5. Метод двойной модуляции

§ 6. Применение метода двойной модуляции к исследованию вторичных процессов с чистых металлов

§ 7. Изучение методом двойной модуляции вторичных процессов при низких температурах мишени

§ 8. Изучение методом двойной модуляции вторичных процессов при высоких температурах мишени

Глава третья. Ионная бомбардировка раскаленных металлов

§ 1. Методика исследования вторичных процессов на раскаленных металлах

§ 2. Температурная и энергетическая зависимости компонентов вторичной ионной эмиссии

§ 3. Температурная и энергетическая зависимости коэффициента нейтрализации

положительных ионов на поверхности металла

§ 4. Зависимость коэффициента рассеяния ионов от рода иона и материала мишени

§ 5. Диффузионный компонент вторичной ионной эмиссии с раскаленных металлов

§ 6. Рассеяние щелочных ионов поверхностью монокристаллов вольфрама и молибдена

Глава четвертая. Взаимодействие медленных ионов с поверхностью твердого тела

§ 1. Методика исследования при работе с медленными ионами

§ 2. Энергетические спектры вторичных ионов при бомбардировке металлов медленными ионами

§ 3. Энергетические зависимости коэффициентов вторичной ионной эмиссии

§ 4. Ограничение выхода вторичных ионов сорбционными силами у поверхности металла

Глава пятая. Угловые закономерности вторичной ионной эмиссии

§ 1. Краткий обзор исследований углового распределения вторичной ионной эмиссии

§ 2. Статический и динамический методы исследования углового и энергетического распределения вторичных ионов

§ 3. Угловое распределение ионов, рассеянных поверхностью металла

§ 4. Зависимость коэффициента вторичной ионной эмиссии и ее компонентов от угла падения первичных ионов

§ 5. Зависимости энергетических спектров от углов падения первичных и вылета вторичных ионов

§ 6. Угловые закономерности рассеяния ионов поверхностью монокристалла

Глава шестая. Вторичные процессы под действием бомбардировки ионами инертных газов

§ 1. Краткий обзор исследований вторичной эмиссии под действием газовых ионов

§ 2. Влияние состояния поверхности металла на потенциальную эмиссию электронов

§ 3. Сравнительное исследование электронной эмиссии с металлов под действием ионов инертных газов и щелочных элементов

§ 4. Зависимость потенциальной эмиссии электронов от температуры и работы выхода мишени

§ 5. Влияние массы иона на ионно-электронную эмиссию [изотопический эффект]

§ 6. Энергетическая зависимость электронной эмиссии из металлов под действием ионов инертных газов

§ 7. Электронная эмиссия при бомбардировке монокристаллов вольфрама ионами Аг+

Глава седьмая. Ионная и электронная эмиссии при бомбардировке пленок переменной плотности положительными ионами

§ 1. Применение метода двойной модуляции к исследованию вторичных процессов с пленок

§ 2. Вторичная эмиссия при бомбардировке металлических пленок щелочными ионами

§ 3. Вторичная эмиссия при бомбардировке металлических пленок ионами инертных газов

§ 4. Исследование вторичных процессов, происходящих при бомбардировке диэлектрических пленок положительными ионами

§ 5. Вторичная эмиссия с диэлектрических пленок при бомбардировке ионами инертных газов

§ 6. Масс-спектрометрическое исследование вторичной эмиссии отрицательных ионов с тонких металлических и диэлектрических пленок

Глава восьмая. Взаимодействие нейтральных атомов с поверхностью твердого тела

§ 1. Краткий обзор исследований взаимодействия нейтральных атомов с поверхностью твердого тела

§ 2. Исследование свойств нейтрального компонента вторичной эмиссии, возникающего при ионной бомбардировке твердого тела

§ 3. Сравнительное изучение вторичной эмиссии металлов и металлических пленок под действием ионов и атомов щелочных элементов

§ 4. Вторичная электронная эмиссия металлов под действием бомбардировки атомами и ионами инертных газов

Глава девятая. Распыление твердого тела ионными пучками

§ 1. Краткий обзор исследований катодного распыления

§ 2. Методика исследования распыления металлов

§ 3. Влияние загрязнения поверхности твердого тела на процесс распыления

§ 4. Распыление твердых тел в чистых поверхностных условиях

Глава десятая. Вторичная электронно-электронная эмиссия

§ 1. Краткий обзор экспериментальных и теоретических исследований по вторичной электронно-электронной эмиссии

§ 2. Динамический метод исследования вторичной электронно-электронной эмиссии

§ 3. Исследование полного энергетического спектра вторичных электронов

§ 4. Угловые зависимости энергетического спектра вторичных электронов

§ 5. Исследование вторичной электронно-электронной эмиссии металлов в различных агрегатных состояниях

Глава одиннадцатая. О теории некоторых явлений, протекающих при столкновении атомных частиц с поверхностью твердого тела

§ 1. Теория ионно-электронной эмиссии

§ 2. О механизме эмиссии электронов из твердых тел под действием атомных частиц

§ 3. К теории отражения атомных частиц от поверхности твердого тела

§ 4. О балансе энергии при столкновении ионов с поверхностью металла

§ 5. Расчет инерционной составляющей вторичной ионно-ионной эмиссии с металлических мишеней

Литература

 
© URSS 2016.

Информация о Продавце