В книге кратко излагаются теоретические основы ионной имплантации. Описаны различные методы исследования имплантированных слоев, оборудование и технология ионного легирования. Рассмотрены проблемы, связанные с пассивацией и локализацией р - n-структуры. Приведены примеры использования ионной имплантации для создания различных классов дискретных полупроводниковых и оптоэлектронных приборов, а также в "имплантационной" металлургии. (Подробнее)
