Обложка Риссел Х., Руге И. Ионная имплантация. Пер. с нем.
Id: 267775

Ионная имплантация.
Пер. с нем.

1983. 360 с. Букинист. Состояние: 4+. .

Аннотация

В книге кратко излагаются теоретические основы ионной имплантации. Описаны различные методы исследования имплантированных слоев, оборудование и технология ионного легирования. Рассмотрены проблемы, связанные с пассивацией и локализацией р - n-структуры. Приведены примеры использования ионной имплантации для создания различных классов дискретных полупроводниковых и оптоэлектронных приборов, а также в "имплантационной" металлургии.