URSS.ru - Издательская группа URSS. Научная и учебная литература
Об издательстве Интернет-магазин Контакты Оптовикам и библиотекам Вакансии Пишите нам
КНИГИ НА РУССКОМ ЯЗЫКЕ


 
Вернуться в: Каталог  
Обложка Плешивцев Н.В. Катодное распыление
Id: 112382
 
3999 руб.

Катодное распыление

1968. 347 с. Твердый переплет. Букинист. Состояние: 4+. Есть погашенная печать расформированной библиотеки.

 Аннотация

В книге дается обзор современного состояния экспериментальных и теоретических исследований катодного распыления. Рассмотрены вопросы практического использования этого явления в науке и технике. Указаны методы борьбы с распылением, когда оно вызывает нежелательные последствия.

Монография может оказать помощь инженерно-техническим и научным работникам электронной, электровакуумной, оптической и полупроводниковой промышленности.

В ней затрагиваются вопросы, которые могут заинтересовать инженеров-физиков, специалистов в области физики плазмы и твердого тела, металлофизиков и химиков, а также студентов.

Книга содержит 47 таблиц, 167 рисунков. Библиография 54 названия.

1 Методы исследования. 2 Характеристика эммитированных частиц. 3 Влияние различных факторов на коэффициент распыления поликристаллов. 4 Распыление монокристаллов. 5. Взаимодействие ионов с твердыми веществами. 6 Теория катодного распыления. 7. Применение катодного распыления. 8. Катодное распыление в науке и технике.


 Оглавление

Предисловие

Введение. Краткий исторический обзор

1

•Методы исследования

1. Катод в тлеющем разряде

2. Зонд Ленгмюра в плазме низкого давления

3. Мишень, распыляемая пучком ионов

4. Распыление осколками деления ядер

5. Ионный микропроектор

6. Методы измерения коэффициента и скорости распыления

7. Требования, предъявляемые при проведении количественных исследований распыления

2

• Характеристики эмиттированных частиц

1. Природа эмиттированных частиц

2. Скорость эмиттированных частиц

3. Угловое распределение эмиттированных атомов

4. Глубина выхода эмиттированных атомов

3

• Влияние различных факторов на коэффициент распыления поликристаллов

1. Энергия ионов

2. Импульс (скорость) ионов

3. Угол падения ионов

4. Атомный номер иона и атомов мишени

5. Состояние поверхности и плотности тока ионов

6. Давление газа и температура образца

7. Распыление сплавов

8. Краткие выводы

4

• Распыление монокристаллов

1. Методика-исследований

2. Эмиссия атомов из монокристаллов в направлениях плотной упаковки

3. Зависимость направлений вылета атомов от типа решетки, плоскости среза и температуры монокристалла и от энергии, угла падения и массы иона

4. Угловое распределение атомов в отдельных пятнах Венер;

5. Зависимость коэффициента распыления от ориентации граней кристаллов, кристаллографических направлений, плотности атомов на поверхности, энергии и массы иона

6. Зависимость коэффициента распыления монокристаллов от угла падения иона

7. Спектр скоростей и средняя кинетическая энергия атомов, эмиттированных вдоль основных кристаллографических направлений

8. Механическая модель распыления Моргулиса

9. Краткие выводы

5

Взаимодействие ионов с твердыми веществами

1. Введение

2. Типы соударений и потенциал взаимодействия между двумя атомами

3. Геометрическая фокусировка соударений атомов в направлениях (ПО) и (100) в гранецентрированных кубических кристаллических решетках

4. Линзовая фокусировка столкновений атомов с замещением в направлениях ( 100) и < 111 ) в гранецентрированных и объ-емноцентрированных кубических кристаллических решетках

5. Внедрение ионов в металлы

6. Поверхностные явления, создаваемые распылением

6

Теория катодного распыления

1. Введение

2. Теория распыления для пороговой области энергий

3. Теория распыления для области абсолютно упругих соударений

4. Теория распыления для области резерфордовских и экранированных кулоновских соударений атомов

5. Теория распыления монокристаллов

6. Термические теории распыления

7. Краткие выводы

7

Применение катодного распыления

1. Создание автомночистых поверхностей и удаление тонких слоев металлов

2. Получение тонких пленок и их свойства

3. ИонАое травление

4. Метод препарирования и электронной микроскопии

5. Сорбционно-ионные насосы

6. Химические реакции, сопровождающие распыление

7. Борьба с электрическими пробоями

8. Источники ионов, использующие катодное распыление

9. Улучшение характеристик полупроводниковых приборов

10. Другие области применения катодного распыления

8

Катодное распыление в науке и технике

1. Основные методы борьбы с распылением

2. Распыление оксидных катодов

3. Распыление торированных и пленочных катодов

4. Распыление автоэлектронных эмиттеров

5. Распыление фотокатодов

6. Распыление в экспериментальных термоядерных установках

7. Распыление в ускорителях заряженных частиц

8. Распыление в ионных ракетных двигателях

9. Распыление метеоритов и поверхности Луны

10. Устранение ионной бомбардировки

Литература

Предметный указатель

 
© URSS 2016.

Информация о Продавце